半導體

DBR 結構是VCSEL最重要的一道製程,DBR的設計、製作好壞,深深地影響VCSEL的表現。Enli Tech u-PLM-EX 採用非破壞的光學檢測方式來精準的檢測、分析DBR磊晶結構,相關的分析功能完整,協助用戶快速掌握VCSEL的開發關鍵。


半導體應用

u-PLM-EX_檢測VCSEL的DBR光學特性之核心關鍵 DBR 結構是VCSEL最重要的一道製程,DBR的設計、製作好壞,深深地影響VCSEL的表現。Enli Tech u-PLM-EX 採用非破壞的光學檢測方式來精準的檢測、分析DBR磊晶結構,相關的分析功能完整,協助用戶快速掌握VCSEL的開發關鍵。 VCSEL垂直共振腔面射雷射 垂直共振腔面射雷射(Vertical-cavity surface-emitting lasers, VCSELs),自1980年代後期發表以來,近期因為蘋果iPhone X 使用3D立體影像感測技術作為人臉辨識,再度讓VCSEL引起話題,成為產業趨勢新焦點。 VCSEL屬雷...